一、設備用途：
 

　　工礦企業、高校、研究所等做高溫燒結、金屬退火、質量檢測。粉末冶金行業以及義齒加工行業的烘烤、氧化鋯盤預燒結等。根據加熱區大小，進行小試，中試，批量生產。
 

　　二、設備優勢：
 

　　1.華測儀器高溫管式爐使用的反射鏡是具有高的精度曲率,采用5軸加工系統加工,以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，它們適合各種材料的在溫度制控的條件下的測試。
 

　　2.高速加熱與冷卻方式：高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時爐體可配置水冷系統，增設氣體冷卻裝置，可實現快速冷卻。
 

　　3.溫度高的精度控制：過紅外鍍金聚焦爐和溫度控制器的組合使用，可以jing準控制樣品的溫度(遠比普通加溫方式)。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高的精度。
 

　　4.不同環境下的加熱與冷卻：加熱/冷卻可用真空、氣氛環境、低溫(高純度惰性氣體靜態或流動)，操作簡單，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。
 

　　三、應用范圍：
 

　　1. 電子材料
 

　　◆半導體用硅化合化的PRA(加熱后急速冷卻)
 

　　◆熱源薄膜形成
 

　　◆激活離子注入后
 

　　◆硅化物的形成
 

　　2. 陶瓷與無機材料
 

　　◆陶瓷基板退火爐
 

　　◆玻璃基板退火爐
 

　　◆陶瓷張力、撓曲試驗退火爐
 

　　3. 鋼鐵和金屬材料
 

　　◆薄鋼板加熱過程的數值模擬
 

　　◆爐焊接模擬
 

　　◆高真空熱處理(1000°C以下)
 

　　◆大氣氣體熔化過程
 

　　◆壓力下耐火鋼和合金的熱循環試驗爐
 

　　4. 復合材料
 

　　◆耐熱性評價爐
 

　　◆無機復合材料熱循環試驗爐
 

　　5. 其它
 

　　◆高溫拉伸壓縮試驗爐
 

　　◆分段分區控制爐
 

　　◆溫度梯度爐
 

　　◆爐氣分析
 

　　◆超導陶瓷退火爐